Промышленные установки плазменной обработки
Установки предназначены для очистки, активации и травления поверхностей материалов, заготовок и изделий ВЧ и НЧ плазмой низкого давления.
| Объём камеры | 15-150 л |
|---|---|
| Питание | 13,56 МГц |
| Мощность | 300–1000 Вт |
- Подбор решения
- Поставка и запуск
- Сервисная поддержка