Настольные установки плазменной обработки
Установки предназначены для очистки, активации и травления поверхностей материалов, заготовок и изделий ВЧ и НЧ плазмой низкого давления.
| Объём камеры | 3,8–12,8 л |
|---|---|
| Питание | 40 кГц / 13,56 МГц |
| Мощность | 10–150Вт / 10–300 Вт |
- Подбор решения
- Поставка и запуск
- Сервисная поддержка